掃描電子顯微鏡（SEM）產(chǎn)品及廠家

日本JEOL掃描電子顯微鏡
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500hr，采用新開發(fā)的高亮度電子槍和透鏡系統(tǒng)，可以更迅速便捷地提供令人驚嘆的高分辨率圖像、高靈敏度和高空間分辨率；從設(shè)定視野到生成報(bào)告，利用完全集成的軟件大大地提高了作業(yè)速度。
更新時(shí)間:2025-01-14
日本JEOL熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f
更新時(shí)間:2025-01-14
日本JEOL低溫冷凍離子切片儀
日本jeol低溫冷凍離子切片儀ib-09060cis，冷卻保持時(shí)間長(zhǎng)，有效地抑制了熱損傷。易受熱損傷的樣品，也能方便地制作出薄膜樣品和截面樣品。
更新時(shí)間:2025-01-14
日本JEOL 離子切片儀
日本jeol 離子切片儀 em-09100is ，用于tem 、stem 、 sem 、 epma 和 auger樣品制備的創(chuàng)新方法 離子切片儀制備薄膜樣品比傳統(tǒng)制備工具快速、簡(jiǎn)單。低能量、低角度（0°到6°）的氬離子束通過遮光帶照射樣品，大大降低了離子束對(duì)樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質(zhì)量也好，對(duì)不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。
更新時(shí)間:2025-01-14
日本JEOL截面樣品拋光儀
日本jeol截面樣品拋光儀ib-19530cp，采用多用途樣品臺(tái)，通過交換各種功能性樣品座實(shí)現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進(jìn)行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時(shí)間:2025-01-14
日本JEOL截面樣品制備裝置
日本jeol截面樣品制備裝置ib-19530cp，采用多用途樣品臺(tái)，通過交換各種功能性樣品座實(shí)現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進(jìn)行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時(shí)間:2025-01-14
日本JEOL 截面樣品拋光儀
日本jeol 截面樣品拋光儀 ib-19520ccp，在加工過程中利用液氮冷卻，能減輕離子束對(duì)樣品造成的熱損傷。冷卻持續(xù)時(shí)間長(zhǎng)、液氮消耗少的構(gòu)造設(shè)計(jì)。在裝有液氮的情況下，也能將樣品快速冷卻、恢復(fù)到室溫，并且可以拆卸。配有傳送機(jī)構(gòu)，在隔離空氣的環(huán)境下能完成從加工到觀察的全過程。
更新時(shí)間:2025-01-14
日本JEOL 軟X射線分析譜儀
日本jeol 軟x射線分析譜儀，通過組合新開發(fā)的衍射光柵和高靈敏度ｘ射線ccd相機(jī)，實(shí)現(xiàn)了高的能量分辨率。 和eds一樣可以并行檢測(cè)，并且能以0.3ev(費(fèi)米邊處al-l基準(zhǔn))的高能量分辨率進(jìn)行分析，超過了wds的能量分辨率。
更新時(shí)間:2025-01-14
日本JEOL 電子探針顯微分析儀
日本jeol 電子探針顯微分析儀 jxa-ihp100，可以安裝通用性強(qiáng)、使用方便的能譜儀x射線探測(cè)器，組合使用wds和eds，能提供無縫、舒適的分析環(huán)境。
更新時(shí)間:2025-01-14
日本JEOL 聚焦離子束加工觀察系統(tǒng)
日本jeol 聚焦離子束加工觀察系統(tǒng) jib-4000，配置了高性能的離子鏡筒(單束fib裝置)。被加速了的鎵離子束經(jīng)聚焦照射樣品后，就能對(duì)樣品表面進(jìn)行sim觀察 、研磨，沉積碳和鎢等材料。還可以為tem成像制備薄膜樣品，為觀察樣品內(nèi)部制備截面樣品。通過與sem像比較，sim像能清楚地顯示出歸因于晶體取向不同的電子通道襯度差異，這些都非常適合于評(píng)估多層鍍膜的截面及金屬結(jié)構(gòu)。
更新時(shí)間:2025-01-14
日本JEOL 雙束加工觀察系統(tǒng)
日本jeol 雙束加工觀察系統(tǒng) jib-4700f，該設(shè)備的sem鏡筒中采用了超級(jí)混合圓錐形物鏡、gb模式和in-lens檢測(cè)器系統(tǒng)，在1kv低加速電壓下,實(shí)現(xiàn)了1.6nm的保證分辨率,與最大能獲得300na探針電流的浸沒式肖特基電子槍組合，可以進(jìn)行高分辨率觀察和高速分析。
更新時(shí)間:2025-01-14
日本JEOL 能量色散型X射線熒光分析儀
日本jeol 能量色散型x射線熒光分析儀 jsx-1000s，采用觸控屏操作、提供更加簡(jiǎn)便迅速的元素分析。具備常規(guī)定性、定量分析（fp法・檢量線法）、rohs元素篩選功能等。利用豐富的硬件/軟件選配件、還能進(jìn)行更廣泛的分析。
更新時(shí)間:2025-01-14
德Neaspec真空太赫茲波段近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡
德neaspec真空太赫茲波段近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡hv-thz-neasnom，該套系統(tǒng)成功地繼承了德國(guó)neaspec公司thz-neasnom的設(shè)計(jì)優(yōu)勢(shì)，采用專利保護(hù)的雙光路設(shè)計(jì)，完全可以實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下太赫茲波段應(yīng)用的樣品測(cè)量。hv-thz-neasnom在實(shí)現(xiàn)30nm高空間分辨率的同時(shí)，由于采用0.1-3thz波段的時(shí)域太赫茲光源（thz-tds），也可以實(shí)現(xiàn)近場(chǎng)太赫茲成像和圖譜的同時(shí)測(cè)量。
更新時(shí)間:2025-01-14
太赫茲近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡
thz-neasnom太赫茲近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡 -30nm光學(xué)信號(hào)空間分辨率
更新時(shí)間:2025-01-14
FEI臺(tái)式掃描電鏡Phenom飛納 標(biāo)準(zhǔn)版
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺(tái)式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍，用于觀察亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。pure 具有全自動(dòng)操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點(diǎn)，適用于傳統(tǒng)大電鏡待測(cè)樣品的快速篩選，也適合于光學(xué)顯微鏡的分辨率無法滿足需求的客戶。
更新時(shí)間:2025-01-13
FEI臺(tái)式掃描電鏡飛納（Phenom） 業(yè)版
第六代 phenom pro 臺(tái)式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大，輕松易用的多功能設(shè)備。長(zhǎng)壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié)合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時(shí)間:2025-01-13
飛納（Phenom）臺(tái)式掃描電鏡 能譜版
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-01-13
Phenom 飛納煙草紙張領(lǐng)域掃描電子顯微鏡
phenom 飛納煙草紙張領(lǐng)域掃描電子顯微鏡
更新時(shí)間:2025-01-13
Phenom臺(tái)式掃描電子顯微鏡標(biāo)準(zhǔn)版Pure
放大倍數(shù)：20000x；分辨率：優(yōu)于30nm；燈絲：1500小時(shí)ceb6燈絲抽真空時(shí)間：10；樣品移動(dòng)方式：自動(dòng)馬達(dá)樣品臺(tái)樣品定位方式：光學(xué)和低倍電子雙重導(dǎo)航樣品導(dǎo)電性要求：無需噴金，直接觀測(cè)絕緣體
更新時(shí)間:2025-01-13
飛納臺(tái)式掃描電鏡
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-01-13
飛納臺(tái)式掃描電子顯微鏡 Phenom ProX
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-01-13
飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom ProX
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-01-13
飛納臺(tái)式掃描電子顯微鏡業(yè)版Pro
第六代 phenom pro 臺(tái)式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大，輕松易用的多功能設(shè)備。長(zhǎng)壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié) 合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時(shí)間:2025-01-13
飛納臺(tái)式掃描電子顯微鏡標(biāo)準(zhǔn)版Pure
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺(tái)式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。基于高亮度 ceb6 燈絲和全新的聚焦系統(tǒng)，phenom pure 的分辨率輕松達(dá)到 10 nm，同時(shí)具有全自動(dòng)操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點(diǎn)。
更新時(shí)間:2025-01-13
飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom Pro
第六代 phenom pro 臺(tái)式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大，輕松易用的多功能設(shè)備。長(zhǎng)壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié) 合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時(shí)間:2025-01-13
飛納臺(tái)式掃描電鏡Phenom Pro
飛納掃描電鏡是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺(tái)式掃描電鏡。放大倍數(shù) 350,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。
更新時(shí)間:2025-01-13
飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom XL
全新的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應(yīng)用的理想選擇。phenom xl g2 升為全面屏成像，平均成像時(shí)間僅為 40 ，比市場(chǎng)上其他臺(tái)式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對(duì)大 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。利設(shè)計(jì)的放氣/樣品裝載系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)全快的放氣/裝載速度，并獲得大的樣品吞吐效率。
更新時(shí)間:2025-01-13
飛納臺(tái)式掃描電鏡電鏡能譜一體機(jī)
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-01-13
飛納臺(tái)式掃描電子顯微鏡 Phenom Pro
飛納高分辨率業(yè)版 phenom pro 是飛納電鏡系列中先進(jìn)的產(chǎn)品，第五代 phenom pro 放大倍數(shù)提升為 150,000 倍，分辨率優(yōu)于 8 nm，30 快速得到表面細(xì)節(jié)豐富的高質(zhì)量圖像
更新時(shí)間:2025-01-13
飛納臺(tái)式掃描電鏡大樣品室卓越版
全新的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應(yīng)用 的理想選擇。phenom xl g2 升為全面屏成像，平均成像時(shí)間僅為 40 ，比市場(chǎng)上其他臺(tái)式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對(duì)大 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。利設(shè)計(jì)的放氣/樣品裝載系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)全 快的放氣/裝載速度，并獲得大的樣品吞吐效率。
更新時(shí)間:2025-01-13
飛納臺(tái)式掃描電子顯微鏡 Phenom ProX
飛納電鏡能譜一體機(jī) phenom prox 是終的集成化成像分析系統(tǒng)。借助該系統(tǒng)，既可觀察樣品的表面形貌，又可分析其元素組分。
更新時(shí)間:2025-01-13
飛納臺(tái)式掃描電鏡
荷蘭飛納公司隆重推出飛納卓越版飛納臺(tái)式掃描電鏡 phenom xl
更新時(shí)間:2025-01-13

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