等離子清洗器產(chǎn)品及廠家
對(duì)于常壓等離子技術(shù)，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過(guò)高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動(dòng)從噴嘴中一同噴出。其等離子效應(yīng)可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過(guò)等離子束中所攜帶的反應(yīng)粒子實(shí)現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時(shí)間:2025-01-13
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統(tǒng)是新代醫(yī)用滅菌設(shè)備，采用過(guò)氧化氫低溫等離子體滅菌技術(shù)？梢詫(duì)不耐濕熱的器械進(jìn)行低溫快速滅菌。特別是對(duì)醫(yī)用電子器械（如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導(dǎo)線、電池等）和非金屬類(lèi)（如導(dǎo)管、光纖窺鏡、硅橡膠制等）物的滅菌，具有顯著的優(yōu)勢(shì)。在環(huán)保、節(jié)能、低溫、快速、安全方面優(yōu)勢(shì)明顯
更新時(shí)間:2025-01-13
電子半導(dǎo)體圖像法清潔度分析系統(tǒng)是普勒新世紀(jì)實(shí)驗(yàn)按照普洛帝分析儀器事業(yè)部的規(guī)劃，于2001年推向市場(chǎng)的成熟系統(tǒng)儀器；觀察顆粒形貌，還可以得到粒度分布、數(shù)量、大小、平均長(zhǎng)徑比以及長(zhǎng)徑比分布等，為科研、生產(chǎn)域增添了一種新的粒度測(cè)試手段；電子半導(dǎo)體圖像法清潔度分析系統(tǒng)為一種圖像法粒度分布測(cè)試以及顆粒型貌分析等多功能顆粒分析系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括光學(xué)顯微鏡、圖像測(cè)試。
更新時(shí)間:2025-01-11
npc-3500（a）全自動(dòng)等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無(wú)二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說(shuō)可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
npc-4000（a）全自動(dòng)等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無(wú)二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說(shuō)可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-01-06
nie-3500 (mc)離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢(shì)。所有核心組件均為國(guó)際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-01-06
npc-3000等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子灰化和清洗系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無(wú)二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說(shuō)可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用
更新時(shí)間:2025-01-06
nie-3000 (c) 離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為手動(dòng)放片取片，但通過(guò)計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的臺(tái)式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢(shì)。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國(guó)際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-01-06
nie-3500 (ac)全自動(dòng)離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為全自動(dòng)上下載片，并且通過(guò)計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢(shì)。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國(guó)際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-01-06
npe-4000（m） pecvd等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達(dá)12” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來(lái)產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì).樣品臺(tái)可以通過(guò)rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)mfc.帶有獨(dú)一無(wú)二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿(mǎn)足廣大范圍的要求，無(wú)論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來(lái)獲得各種沉積參數(shù)。
更新時(shí)間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
npc-3500（m）等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無(wú)二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說(shuō)可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-01-06
npe-4000（a）全自動(dòng)pecvd等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達(dá)6” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來(lái)產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì).樣品臺(tái)可以通過(guò)rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)mfc.帶有獨(dú)一無(wú)二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿(mǎn)足廣大范圍的要求，無(wú)論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來(lái)獲得各種沉積參數(shù)。
更新時(shí)間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
npc-4000（m）等離子清洗機(jī)概述：nano-master 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無(wú)二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說(shuō)可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-01-06
hty-30a型真空泵是設(shè)計(jì)用于微生物檢測(cè)的專(zhuān)用真空泵，它具有外形小巧，操作簡(jiǎn)單，易于清潔維護(hù)等特點(diǎn)。它既可與微生物限度過(guò)濾支架配套hty-30a真空泵 jmr-y30a型真空泵是設(shè)計(jì)用于微生物檢測(cè)的專(zhuān)用真空泵，它具有外形小巧，操作簡(jiǎn)單，易于清潔維護(hù)等特點(diǎn)。它既可與微生物限度過(guò)濾支架配套，采用負(fù)壓抽濾方式進(jìn)行微生物限度檢查，也可單作為抽氣設(shè)備使
更新時(shí)間:2024-12-31
光刻機(jī)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，紫外曝光機(jī)等；美國(guó)公司為全球先的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來(lái)致力于掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技域；該公司是目上早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以?xún)?yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶(hù)的青睞。
更新時(shí)間:2024-12-30
原子層沉積系統(tǒng)atomic layer deposition system 產(chǎn)地：美國(guó)angstrom；型號(hào)：angstrom dep ii, angstrom dep
更新時(shí)間:2024-12-30
vpg+800 / vpg+1100 / vpg+1400大尺寸超高速圖形發(fā)生器the multi-purpose volume pattern generators
更新時(shí)間:2024-12-30
nanofrazor scholar適合科研域的中小型實(shí)驗(yàn)凈房與納米加工的學(xué)術(shù)研究域thermal scanning probe lithography toolwith in-situ imaging and grayscale patterning capabilities
更新時(shí)間:2024-12-30
mpo 100雙光子聚合 (tpp) 多用途工具multi-user tool for 3d lithography and 3d microprinting
更新時(shí)間:2024-12-30
jem-2800是日本電子透射電子顯微鏡系列中的一款特殊設(shè)計(jì)的產(chǎn)品，在兼顧高分辨高穩(wěn)定性的同時(shí)，求分析效率的大化和操作的自動(dòng)化。顛覆傳統(tǒng)的電鏡外觀設(shè)計(jì)，除了讓人耳目一新外，還對(duì)設(shè)置環(huán)境更具抗干擾能力。
更新時(shí)間:2024-12-30
016年新年伊始，日本電子株式會(huì)社（jeol）即全球同步推出了新款場(chǎng)發(fā)射透射電鏡jem-f200。 為了全面整合近年發(fā)展起來(lái)的透射電鏡上的各種功能，jem-f200進(jìn)行了全新設(shè)計(jì)，在保障各種功能達(dá)到限的同時(shí)，追求操作的簡(jiǎn)單化和自動(dòng)化，為用戶(hù)提供透射電鏡操作的全新體驗(yàn)。
更新時(shí)間:2024-12-30
nano indenter g200x提供了一種易于使用的納米機(jī)械測(cè)試儀，可快速提供準(zhǔn)確的定量結(jié)果。g200x系統(tǒng)處理從硬涂層到軟聚合物的各種樣品，并提供kla儀器納米壓痕儀產(chǎn)品線中全面的測(cè)試套件。
更新時(shí)間:2024-12-30
benchplasmacleaner小型等離子清洗系統(tǒng)pdc32g和pdc002hpc系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺(tái)式等離子處理設(shè)備域當(dāng)之無(wú)愧的先者，我們?yōu)閷?shí)驗(yàn)室研發(fā)提供性?xún)r(jià)比高的小型等離子清洗設(shè)備，已經(jīng)有30多年的豐富經(jīng)驗(yàn)。harrick等離子體表面處理儀的應(yīng)用范圍：*清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
更新時(shí)間:2024-12-30
德國(guó)diener electronic gmbh + co. kg公司成立于1993年，業(yè)從事等離子表面處理設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)， diener等離子清洗機(jī)可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準(zhǔn)備等。可選擇40khz/80khz/100khz、13.56mhz和2.45ghz三種射頻發(fā)生器，以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果需要。
更新時(shí)間:2024-12-30
2.6 升的low-cost-plasma-laboranlage zepto 為手動(dòng)型，配有 pc 和 pcce 控制系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-12-30
德國(guó)diener electronic gmbh + co. kg公司成立于1993年，業(yè)從事等離子表面處理設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)， diener等離子清洗機(jī)可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準(zhǔn)備等？蛇x擇40khz/80khz/100khz、13.56mhz和2.45ghz三種射頻發(fā)生器，以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果需要。
更新時(shí)間:2024-12-30
10.5 升的low-cost-plasma-laboranlage atto 為手動(dòng)型，配有 pc 和 pcce 控制系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-12-30
德國(guó)diener electronic成立于1993年，是低溫等離子工業(yè)的導(dǎo)者，是一家門(mén)研發(fā)和制造低溫低壓等離子清洗機(jī)、等離子射頻電源和大氣（常壓）等離子清洗機(jī)的高科技企業(yè)。
更新時(shí)間:2024-12-30
pico 等離子設(shè)備能夠以不同的形式進(jìn)行整合，例如以模塊系統(tǒng)的形式。在下文中您可以大致了解能夠與 pico 等離子系統(tǒng)一同使用的常見(jiàn)的選裝件。
更新時(shí)間:2024-12-30
diener等離子表面處理設(shè)備 德國(guó)原裝進(jìn)口德國(guó)diener是門(mén)生產(chǎn)經(jīng)濟(jì)、可靠的等離子清洗和等離子刻蝕設(shè)備的公司, 是上材料處理低溫等離子體設(shè)備的市場(chǎng)和技術(shù)先者。diener采用先進(jìn)的集成化技術(shù)開(kāi)發(fā)生產(chǎn)射頻頻率為40khz 、80khz、13.56mhz，以及代表等離子應(yīng)用先進(jìn)技術(shù)的2.45ghz的等離子清洗機(jī)。
更新時(shí)間:2024-12-30
diener,plasmbeam,plasmbeam pc,plasmbeam大氣壓等離子清洗機(jī)/等離子表面處理
更新時(shí)間:2024-12-30
iener等離子表面處理設(shè)備 德國(guó)原裝進(jìn)口德國(guó)diener是門(mén)生產(chǎn)經(jīng)濟(jì)、可靠的等離子清洗和等離子刻蝕設(shè)備的公司, 是上材料處理低溫等離子體設(shè)備的市場(chǎng)和技術(shù)先者。diener采用先進(jìn)的集成化技術(shù)開(kāi)發(fā)生產(chǎn)射頻頻率為40khz 、80khz、13.56mhz，以及代表等離子應(yīng)用先進(jìn)技術(shù)的2.45ghz的等離子清洗機(jī)。
更新時(shí)間:2024-12-30
spk-500s 寬幅等離子清洗機(jī)(plasma cleaner)，氣體通過(guò)激勵(lì)電源離化成等離子態(tài)，等離子體作用于產(chǎn)品表面，清洗產(chǎn)品表面污染物，提高表面活性，增強(qiáng)附著性能。等離子清洗是一種新型的、環(huán)保、高效、穩(wěn)定的表面處理方式。
更新時(shí)間:2024-12-30
等離子清洗機(jī)表面活化處理kt-s2dqx是一款小型等離子清洗機(jī)，對(duì)電子材料、金屬材料、塑料、玻璃、橡膠、ptfe等，表面進(jìn)行清洗，活化改性，去除有機(jī)物，去除氧化物，去除微小顆粒；提升親水性，增強(qiáng)粘接性，附著力，分子活性。
更新時(shí)間:2024-12-27
等離子清洗機(jī)去膠機(jī)器kt-s2dqx在真空腔體里，通過(guò)射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無(wú)序的等離子體，通過(guò)等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面．以達(dá)到清洗目的．
更新時(shí)間:2024-12-27
等離子清洗機(jī)刻蝕機(jī)kt-s2dqx利用等離子清洗機(jī)對(duì)包裝盒子或玻璃瓶體進(jìn)行預(yù)處理，在包裝或瓶體貼標(biāo)簽過(guò)程中，經(jīng)過(guò)預(yù)處理后，可采用價(jià)格低廉、無(wú)環(huán)境污染的水膠。 kt-s2dqx配備了觸摸屏，產(chǎn)品多功能，智能，簡(jiǎn)單。
更新時(shí)間:2024-12-27
儀器符合中國(guó)環(huán)境保護(hù)部hj/t 372-2007《水質(zhì)自動(dòng)采樣器技術(shù)要求及檢測(cè)方法》，是集流量測(cè)量、水樣采集，自動(dòng)分瓶、恒溫冷藏一體的多功能環(huán)境監(jiān)測(cè)儀器，具有體積小，方便移動(dòng)、操作簡(jiǎn)捷、環(huán)保節(jié)能等特點(diǎn)。適用于各級(jí)環(huán)境監(jiān)測(cè)站、監(jiān)察機(jī)構(gòu)、科研院所、水務(wù)、市政及污水處理廠，對(duì)工業(yè)污染源排放口、江、河、湖、海等水樣進(jìn)行自動(dòng)采樣。
更新時(shí)間:2024-12-20
桌面型真空等離子處理設(shè)備重量：80kg顏色：珍珠白定制型水平電
更新時(shí)間:2024-12-19
品牌：plaux 用途范圍：醫(yī)療、工業(yè)、配件 是否支持加工定制：是是否進(jìn)口：否 容量：20l 操作系統(tǒng)：windows 10 觸摸屏：7寸材質(zhì)：選配 型號(hào)：pm-210ln
更新時(shí)間:2024-12-19
是否支持加工定制 否是否進(jìn)口 否材質(zhì) 鋁合金/不銹鋼型號(hào) pm-210ln用途范圍 表面清潔及改善顏色 白色電壓 380v品牌 plaux
更新時(shí)間:2024-12-19
最新產(chǎn)品
- 意大利DINI ARGEO狄納喬稱(chēng)重顯示器DGT20 2025/1/14 17:04:33
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- 上海祥樹(shù)BINKS球 2025/1/14 17:03:38
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