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光學平臺產(chǎn)品及廠家

上海儀廣科技鐵磁不銹鋼面包板 FB系列，430系列不銹鋼

上海儀廣科技鐵磁不銹鋼面包板 fb系列，430系列不銹鋼fb系列面包板選用430系列不銹鋼，可方便用于鏡架、支架、位移臺、導軌、磁力底座等機械件和光學組件的安裝使用。

更新時間:2024-12-27

該公司產(chǎn)品分類：上海儀廣科技有限公司

上海儀廣科技 QT系列自平衡氣浮隔振光學平臺

上海儀廣科技 qt系列自平衡氣浮隔振光學平臺? 臺面蜂窩內芯結構，臺板強度高，穩(wěn)定可靠。 ? 自平衡氣浮隔振，自動充氣，自動平衡，響應時間短，平衡速度快。 ? 高效的振動隔離，采用半膜片式空氣彈簧，支撐腿內部還有二級氣室，進一步提升隔振性能。

更新時間:2024-12-27

該公司產(chǎn)品分類：上海儀廣科技有限公司

AOD-LEDSD-B LEDLEDSD-B LED光電特性與色度學測量綜合實驗平臺

:led（light emitting diode），半導體發(fā)光二極管，是一種固態(tài)的半導體器件，它可以直接把電轉化為光，以其低功耗，高效率，高穩(wěn)定型等特點在照明、光通信等領域逐步替代傳統(tǒng)光源。對led的各項參數(shù)的理解與測試方式的掌握是開發(fā)應用此類器件的基礎。采用新光電器件及現(xiàn)在工業(yè)廣泛應用的測試方法開發(fā)的此套教學實驗產(chǎn)品適用于光電專業(yè)本科生基礎光電實驗及高職院校學生實訓課程。

更新時間:2024-12-25

該公司產(chǎn)品分類：北京愛歐德儀器設備有限公司

GB8050LED防爆燈30W-GB8050LED防爆平臺燈50W

gb8050led防爆燈30w-gb8050led防爆平臺燈50w適用于化工廠房、倉庫、鍋爐房、儲存間、罐區(qū)、鋼廠等車間或廠房作固定照明

更新時間:2024-12-25

該公司產(chǎn)品分類：新馳電氣(湖北)有限公司

AutoRAE自動標定平臺

自動標定平臺品說明 autorae 自動標定系統(tǒng)可用于華瑞系列便攜式氣體檢測儀的自動標定、自動回讀測試和自動充電。支持多種型號便攜表，無需連接計算機，操作簡單。主要特點• 自動標定• 自動回讀測試• 自動充電• 簡單的按鍵操作• 無需連接計算機• 標定和測試結果數(shù)據(jù)直接打印

更新時間:2024-12-25

該公司產(chǎn)品分類：北京愛歐德儀器設備有限公司

Lite （for ToxiRAE 3）自動標定平臺

lite （for toxirae 3）自動標定平臺autorae 自動標定系統(tǒng)可用于華瑞系列便攜式氣體檢測儀的自動標定、自動回讀測試和自動充電。支持多種型號便攜表，無需連接計算機，操作簡單。主要特點• 自動標定• 自動回讀測試• 自動充電̶

更新時間:2024-12-25

該公司產(chǎn)品分類：北京愛歐德儀器設備有限公司

AOD-BIPV-BBIPV-B 智能建筑綜合設計平臺

本實驗裝置是基于國家大學生創(chuàng)新實驗項目和競賽項目的基礎上改進完善提高后定型的。是結合了智能家居、智能樓宇的設計理念，融合光電技術、物聯(lián)網(wǎng)技術，嵌入式技術等等為一體的綜合性設計開發(fā)平臺，該裝置設計理念先進，科技含量高，綜合性強，屬于多學科交叉的實驗儀器，實驗設計平臺的各個部分，既有與光電、傳感器等的原理密切相關的基礎實驗，又有利用無線組網(wǎng)傳感、手機遠程

更新時間:2024-12-25

該公司產(chǎn)品分類：北京愛歐德儀器設備有限公司

VK-X3000基恩士KEYENCE形狀測量激光顯微系統(tǒng)

keyence 基恩士形狀測量激光顯微系統(tǒng)全新 vk-x3000，納米 / 微米 / 毫米，一臺即可完成測量。292 種分析工具，一臺即可了解希望獲取的信息。一臺即包含了光學顯微鏡，臺階儀，光學輪廓儀，及電鏡功能。

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

EVG7200奧地利SmartNIL紫外納米壓印

奧地利smartnil紫外納米壓�。篹vg7200，leds 制作，led pss納米壓印工藝，led納米透鏡陣列；微流體學；芯片實驗室；抗反射層；納米壓印光柵；蓮花效應；光子帶隙；光學及通訊：光晶體，激光器件；生物技術解決方案：醫(yī)藥分析，血液分析，細胞生長。

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

EVG610奧地利EVG掩膜光刻機

evg610是一款非常靈活的適用于研發(fā)和小批量試產(chǎn)的對準系統(tǒng)，可處理大200mm之內的各種規(guī)格的晶片。evg610支持各種標準的光刻工藝，例如：真空、軟、硬接觸和接近曝光；也支持其他特殊的應用，如鍵合對準、納米壓印光刻、微接觸印刷等。系統(tǒng)中的工具更換非常簡便快捷，每次更換都可在一分鐘之內完成，而不需要門的工程人員和培訓，非常適合大學、研究所的科研實驗和小批量生產(chǎn)。

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

EVG510奧地利EVG鍵合機

奧地利evg鍵合機：evg510，是一款半自動晶圓鍵合系統(tǒng)，可以處理大200mm的晶圓，非常適合于研發(fā)和小批量生產(chǎn)。evg510提供了除上料和下料外的全自動工藝處理過程，并配備了業(yè)界公認的優(yōu)異的加熱和壓力均勻性系統(tǒng)。evg510模塊化的鍵合腔室設計可用于150mm或200mm晶圓鍵合，并且其工藝菜單與evg其他更高系列的鍵合機相匹配，可以方便的實現(xiàn)從實驗線到量產(chǎn)線的工藝復制。

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

EVG510IS奧地利EVG鍵合機

evg520is是一款設計用于小批量生產(chǎn)的半自動晶圓鍵合系統(tǒng)，大硅片允許尺寸為200mm。集evg新技術及客戶反饋基礎上設計的evg520is，配備了evg公司的利吸盤設計---這種吸盤可以提供對稱的快速加熱和冷卻功能。evg520is的很多優(yōu)勢特性，如獨立的上下盤加熱和高壓鍵合工藝、高度的材料和工藝靈活性等，都幫助客戶很好的實施鍵合研究和生產(chǎn)。

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

EVG620奧地利EVG單雙面光刻機(帶有壓印功能）

evg620 單面/雙面光刻機(帶有壓印功能），evg620 是一款非常靈活和可靠的光刻設備，可配置為半自動也可以為全自動形式。evg620 既可以用作雙面光刻機也可以用作 150mm 硅片的精確對準設備；既可以用作研發(fā)設備，也可以用作量產(chǎn)設備。精密的契型補償

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

NE-550Z日本Ulvac干法等離子刻蝕裝置

ne-550z是高真空load-lock式干法等離子刻蝕裝置，適用于半導體材料、金屬材料等的精細刻蝕

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

CS-200z日本Ulvac返回式真空濺射裝置

返回式真空濺射裝置 cs-200z，高真空交直流濺射設備.適用于金屬、合金、陶瓷材料的高品質濺射成膜.

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

Pioneer 180-2-PLD美國Neocera 脈沖激光沉積系統(tǒng)

美國neocera 脈沖激光沉積系統(tǒng)pioneer 180-2-pld,一種用途廣泛的、用于薄膜沉積以及納米結構和納米粒子合成的方法

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

Pioneer 180-2-PLD氮化鎵支撐片，晶片，硅片

2英寸氮化鎵自支撐晶片, 10×10.5mm²氮化鎵自支撐晶片, 非性/半性氮化鎵自支撐晶片, 4英寸氮化鎵厚膜晶片, 2英寸氮化鋁厚膜晶片, 2英寸氮化鎵厚膜晶片

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

AS-ONE法國Annealsys 高溫退火爐

法國annealsys 高溫退火爐as-one, 多用途快速熱處理設備，適用于硅，化合物半導體，太陽能電池& mems.

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

OCTOPLUS 400德國MBE-Komponenten 分子束外延系統(tǒng)

日本rion液體光學顆粒度儀ks-19f,寬廣的測試范圍，可測試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準的顆粒數(shù)據(jù)。octoplus 400 是一款通用型mbe系統(tǒng)，非常適合于iii/v族， ii/vi族，及其他復合半導體材料應用。兼容2-4英寸標準晶片。豎直分割式腔體設計，可以裝配各種源爐，實現(xiàn)不同材料分子束外延生長。

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

RTP-150德國UnitemP真空快速退火爐

德國unitemp真空快速退火爐rtp-150, 單晶圓，150mm，快升溫速率可達150k/s

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

HERCULES NIL奧地利EVG紫外納米壓印系統(tǒng)

evg的hercules nil 300 mm是一個完全集成的納米壓印系統(tǒng)，是evg的nil產(chǎn)品組合的新成員。 hercules nil基于模塊化平臺，在單個平臺上將清洗模塊，抗蝕劑涂層模塊和烘烤預處理模塊與evg的有smartnil大面積納米壓�。╪il）模塊結合在一起，用于直徑大為300 mm的晶片。

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

EVG720奧地利EVG紫外納米壓印系統(tǒng)

evg720紫外納米壓印用于從印章到襯底的紫外圖形轉移。evg720自動納米壓印系統(tǒng)允許襯底和印章的尺寸從很小的芯片到150mm直徑的圓片范圍。

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

OAI 200美國 OAI 光刻機 Model 200 型桌面掩模對準器系統(tǒng)

美國 oai 光刻機 model 200 型桌面掩模對準器系統(tǒng)，完全手工操作，輸出光譜范圍:hg: g(436海里),h(405海里),i(365nm)和310nm線，hg-xe: 260nm和220nm或led: 365nm, 395nm, 405nm

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

Model 212美國OAI紫外光刻機

oai model 212型桌面掩模對準系統(tǒng), 輸出光譜范圍:hg: g(436nm),h(405nm),i(365nm)和310nm,hg-xe: 260 nm和220 nm或led:365 nm、395 nm和405 nm

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

Model 800E美國OAI掩模對準系統(tǒng)

oai model 800e 型掩模對準系統(tǒng)，各種光譜范圍選項:hg燈:g(436nm),h(405nm)， i(365nm)和310nm線，hg-xe燈:260nm和220nm

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

Model 6000美國OAI紫外光刻機

oai 掩膜光刻機 model 6000型，高吞吐量180 wph，靈活處理基板從2“平方到12”平方

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

Model 6020S美國OAI紫外光刻機

oai的面板掩模光刻機 model 6020s, 用于foplp型號6020s -半自動化或自動化,實現(xiàn)500mm x 500mm 晶圓尺寸的fo-plp加工.

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

NIE-4000 ,NIR-4000 IBE/RIE離子束刻蝕系統(tǒng)

nie-4000 離子束刻蝕系統(tǒng)，nir-4000 ibe/rie 雙刻蝕系統(tǒng)，通過加速的 ar 離子進行物理刻蝕或銑削。對于硅的化合物也可以通過反應離子束刻蝕的方式提高刻蝕速率和深寬比。

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

Hysitron TI 980 TriboIndenter納米壓痕儀

hysitron ti 980 納米壓痕儀bruker hysitron ti 980 triboindenter 加速納米力學研究進入更高階段,同時具有高的性能、靈活性、可信度、實用性和速度。基于海思創(chuàng)幾十年的技術創(chuàng)新，它為納米力學表征帶來了高水平的性能、功能和易用性。ti 980達到了臺優(yōu)異納米力學測試儀

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

Hysitron TI 980 TriboIndenter全自動超聲波掃描顯微鏡

echo pro 全自動超聲波掃描顯微鏡美 sonix 全自動超聲波掃描顯微鏡echo pro , 批量 tray盤和框架直接掃瞄, 編程自動判別缺陷, 高產(chǎn)量,無需人員重復設置, 自動烘干.

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

ELS-F125日本Elionix微細加式電子束曝光電子束直寫機

日本elionix 微細加式電子束曝光電子束直寫機els-f125，是elionix推出的上臺加速電壓達125kv的電子束曝光系統(tǒng)，其可加工線寬下限為5nm的精細圖形。

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

ELS-F150日本Elionix 超高精密電子束光刻系統(tǒng)

日本elionix 超高精密電子束光刻系統(tǒng) els-f150, 是上第個150千伏電子束光刻系統(tǒng)。支持單位納米用于高研究的設備制造。

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

ELS-BODEN日本Elionix電子束光刻機

els-boden 新型電子束光刻系統(tǒng),高速掃描400mhz頻率生產(chǎn)

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

μMLA海德堡桌面無掩模光刻機

日本電子 jsm-7610fplus，用于納米科學的肖特基場發(fā)射掃描電子顯微鏡，是款采用半浸沒式物鏡、擁有超高分辨率的場發(fā)射掃描電子顯heidelberg 海德堡 μmla桌面無掩模光刻機

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

DWL 66+德國海德堡激光直寫光刻機

dwl 66+激光光刻系統(tǒng)是具經(jīng)濟效益的高分辨率圖像產(chǎn)生器, 具有多種直寫模塊，實現(xiàn)不同精度直寫需求, 能于結構上進行灰度曝光

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

MLA150德國海德堡 Heidelberg 激光直寫光刻機

德國海德堡 heidelberg 激光直寫光刻機 mla150,德國高精密激光直寫繪圖機,非接觸式曝光,可支持高效數(shù)位光刻與灰度光刻.

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

OCTOPLUS 500德國MBE-Komponenten 分子束外延系統(tǒng)

octoplus 500 mbe系統(tǒng)是為了在6英寸襯底上生長高質量的iii/v族或者ii-vi族異質結構材料而研發(fā)業(yè)分子束外延系統(tǒng)。樣品臺選用熱解石墨加熱或者鎢、鉭加熱絲。標準的octoplus 500有11個呈放射狀分布的源孔，可以根據(jù)需要增選3個源孔。

更新時間:2024-12-24

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司